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本产品针对硅片清洗而开发出的一款新型硅片清洗剂，能够有效降低硅片表面脏污。可对金刚线切割硅片表面的硅粉、金属颗粒以及切割和脱胶工序硅片表面残留的有机物等脏污进行高效快速的去除。该产品清洗后硅片脏污率低、稳定性好，使用操作简便，生产良率高。
关键词： 硅片清洗剂硅片脏污清洗
本产品针对金刚线切割的单晶硅片清洗而研发(适用于多晶硅片清洗)，分为A和B两个组分，通过优选配方使其具有更强清洗硅片表面各种脏污的能力，提高对清洗前端脏污容忍度。其对硅片损伤层以及线缝中残留微量脏污有更好去处能力，大幅降低后端制绒白斑等问题。清洗后的硅片表面洁净，色泽一致，亮度及洁净度优于常规清洗剂。同时具有低泡、pH值稳定、易漂洗等优点，有利于后续制绒工序的进行。
关键词： 硅片清洗剂清洗硅片脏污
本产品适用于原生多晶、头尾料、边皮料、碎片料等清洗，能有效去除表面金属离子、有机物残留、氧化等脏污，消除对晶炉的影响，清洗后的硅料具有表面洁净，色泽一致，易漂洗等优点。
关键词： 硅片清洗剂清洗脏污
